鐳立LM-DP-E20採用增強的高速、高精度全固態激光技術，可以得到近乎完美的標刻質量，目前，由於採用了半導體泵浦的ND：YVO4激光技術，以更低的運行成本得到更高品質的標刻效果，由於半導體的壽命大大延長，使得整台設備在長達一年多的時間內免於維護。這台設備使用戶獲得更高的產量和更好的標刻質量，集成化和模塊化的設計可滿足用戶各種特定的需求。
● 採用半導體泵浦Nd:YVO4 激光器和高速度標刻頭(SCANLAB CUBE)；特殊設計的標刻軟件使在線飛行打標同時獲得完美品質成為可能。
● 超過每秒800 字符的標刻速度；
● 計算機控制的刻線寬度和深度保証標刻品質持續一致；
● 模塊化設計和光纖技術使系統更加靈活，適應面廣，便於安裝于任意可能的位置，最大限度避免死角的產生；
● 超長的半導體壽命可讓整機在長達一年多的時間內免於維護；
● 由於高效的泵浦系統整機採用完全空氣冷卻技術，進一步降低了運行成本。 |
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