镭立LM-DP-E20采用增强的高速、高精度全固态激光技术，可以得到近乎完美的标刻质量，目前，由于采用了半导体泵浦的ND：YVO4激光技术，以更低的运行成本得到更高品质的标刻效果，由于半导体的寿命大大延长，使得整台设备在长达一年多的时间内免于维护。这台设备使用户获得更高的产量和更好的标刻质量，集成化和模块化的设计可满足用户各种特定的需求。
● 采用半导体泵浦Nd:YVO4 激光器和高速度标刻头(SCANLAB CUBE)；特殊设计的标刻软件使在线飞行打标同时获得完美品质成为可能。
● 超过每秒800 字符的标刻速度；
● 计算机控制的刻线宽度和深度保证标刻品质持续一致；
● 模块化设计和光纤技术使系统更加灵活，适应面广，便于安装于任意可能的位置，最大限度避免死角的产生；
● 超长的半导体寿命可让整机在长达一年多的时间内免于维护；
● 由于高效的泵浦系统整机采用完全空气冷却技术，进一步降低了运行成本。 |
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